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(1) 加工方法 圧電セラミックス はボールミル（ドラム式、遊星式、撹拌式、振動式ボールミル）を使用し、原料に粉砕ボール（鋼球、メノウ球、ジルコニウム球など）とメディア（水、アルコールなど）を加えて製造します。それは機械的な混合または通信です。
(2) 処理原理
粉砕ボールはモーターにより遠心力、摩擦力、重力を発生させ、衝突、サイクル旋回、回転運動を行い、その間にある粉体に衝撃粉砕と摩擦粉砕を加えて混合粉砕を行います。
(3) ボールミルプロセス
特定のボールミルプロセスは、さまざまなボールミルによって異なります。合理的なプロセスパラメータは、実験結果（ボールミル後の混合度、粒子サイズと分布、混合量、効率とコストなど）によって最適化される必要があります。 高粉末ピエゾシリンダーチューブは 、関連するプロセスパラメータを参照することもできます。
予備燃焼プロセス: 取り付けは、乾燥した粉末をるつぼに混合し、プレス、穴を開け、蓋をして炉に入れることです。有機物や水分の除去を容易にするために、500 °C の前面ドアをわずかに開き、炉のドアを閉じます。 2) 加熱条件 (一般的な PZT を例にします) 加熱速度: 炉内の装入量によって異なります。最高温度: 850 °C (式による)。保持時間: PT を生成するために 650°C で 1 ～ 2 時間。温度を約８５０℃で２時間維持して、ＰＺＴを生成した。冷却速度: の力 ソフト PZT 圧電セラミック チューブの結晶は 炉とともに停止され、200 °C 未満で排出されます。炉雰囲気：中性または酸化性雰囲気が好ましい。還元雰囲気では粉末が還元されて黒くなるため、厳密に管理する必要があります。シリコンカーボンロッド炉は抵抗線炉よりも優れています。
焼成前磁器の品質要件:
外観: 色は正常で均一です。特定の膨張または収縮があります（特定の式に応じて異なります）。 小型圧電管トランスデューサ);硬さは適度です。化学分析: 遊離ジルコニウム、チタン、鉛は 0.5% 未満です。相分析。ペロブスカイト相であり、不純物相はありません。焼成に影響を与える要因。原料の活性と粒子サイズの関係は 2012QkTrtDe の式にあります。ここで、t は固相反応に必要な時間です。 rは粒子直径です。 D0 は拡散周波数係数です。 Q は活性化エネルギーです。温度; kは定数です。このことは、固相反応の速度は原料の拡散状態（D0）、活性、温度に比例し、原料粒子の平均粒径に反比例することを示しています。合成温度（上記）。加熱速度と保持時間。ブランク押圧力。炉内温度均一性、雰囲気等
