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उच्च तापमान वाली पतली फिल्म पीजो की विनिर्माण तकनीक

दृश्य: 3     लेखक: साइट संपादक प्रकाशन समय: 2018-06-29 उत्पत्ति: साइट

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विनिर्माण प्रक्रिया


विनिर्माण प्रक्रियाएँ अक्सर उच्च तापमान के प्रदर्शन को प्रभावित करती हैं पीज़ोइलेक्ट्रिक कंपन सेंसर । यह एनीलिंग है, वातावरण को डोपिंग करता है, स्पटरिंग दबाव, तापमान और अन्य प्रक्रिया पैरामीटर संवेदनशीलता गुणांक पर बहुत प्रभाव डालते हैं, यह उच्च तापमान पतली फिल्म सेंसर का तापमान और स्थिरता है। ये प्रक्रिया पैरामीटर अक्सर घनत्व, क्रिस्टल संरचना आदि को प्रभावित करते हैं। पीजो सामग्री सामग्री के गुणों में एक निश्चित डिग्री तक परिवर्तन का कारण बनती है, जो अंततः उच्च तापमान पतली फिल्म सेंसर के प्रदर्शन मापदंडों को प्रभावित करती है। यह सही प्रक्रिया मापदंडों का चयन कर रहा है पीजोइलेक्ट्रिक सिरेमिक ट्रांसड्यूसर बेहतर प्रदर्शन के साथ पतली फिल्म सेंसर के निर्माण के लिए महत्वपूर्ण है। उदाहरण के लिए, उच्च तापमान और वातावरण पर एनीलिंग, जिसका पीडीसीआर पतली-फिल्म स्ट्रेन गेज की फिल्म संरचना और शीट प्रतिरोध पर प्रभाव पड़ता है, जो फिल्म की सतह पर क्रोमियम ऑक्साइड उत्पन्न कर सकता है, जिससे स्ट्रेन गेज की बेहतर सुरक्षा होती है और पीजो फिल्म की प्रतिरोधकता कम हो जाती है।


पैटर्निंग सतह


पारंपरिक विनिर्माण प्रक्रियाएं आम तौर पर उच्च तापमान वाली पतली-फिल्म की विभिन्न परतों को उत्पन्न करने के लिए मैग्नेट्रोन स्पटरिंग का उपयोग करती हैं Pzt पीजो सिरेमिक . जब आवश्यक हो तो तापमान-मापित घटक या संरचनाएं घुमावदार सतह होती हैं, मास्क बनाना मुश्किल होता है। इसके अलावा, उच्च तापमान वाली पतली-फिल्म सेंसर में छोटी चौड़ाई और बहु-परत पतली फिल्में होती हैं। इसलिए, संरेखण अधिक कठिन है. विशेष रूप से, जब एक बहु-फ़ंक्शन एकीकृत उच्च-तापमान पतली फिल्म ट्रांसड्यूसर का निर्माण किया जाता है, तो प्रत्येक कार्यात्मक की मोटाई और पैटर्न पीज़ो कंपन सेंसर मॉड्यूल अलग हैं, और घुमावदार सतह बनाना और भी सुविधाजनक है।


उच्च तापमान प्रक्रिया


पीजोइलेक्ट्रिक नॉक सेंसर का घनत्व और माइक्रोस्ट्रक्चर उत्पन्न होता है, विभिन्न प्रक्रियाएं अलग-अलग होती हैं, और प्राप्त विशेषताएं भी भिन्न हो सकती हैं। पतली-फिल्म सेंसर की निर्माण प्रक्रिया के लिए आवश्यकताओं में वृद्धि के बाद उच्च तापमान पर काम किया जा रहा है, कई प्रक्रिया मापदंडों को फिर से अनुकूलित करने की आवश्यकता है। उदाहरण के लिए, जब एल्यूमीनियम ऑक्साइड इन्सुलेटिंग परत को जमा करने के लिए एक मिश्र धातु पतली फिल्म स्ट्रेन गेज बनाया जाता है, तो उच्च तापमान पर स्ट्रेन गेज का उपयोग करने पर एल्यूमीनियम ऑक्साइड परत के तनाव को पूरा करने के लिए एल्यूमीनियम ऑक्साइड जमा होने पर सब्सट्रेट करना आवश्यक होता है। जब हीटिंग का तापमान पीज़ोइलेक्ट्रिक प्रेशर सेंसर 800 डिग्री सेल्सियस ~ 900 डिग्री सेल्सियस तक पहुंचता है, प्राप्त एल्यूमिना फिल्म ट्रांसड्यूसर का उपयोग 1 100 डिग्री सेल्सियस से अधिक के वातावरण में 1 100 डिग्री सेल्सियस के तापमान पर किया जा सकता है, सब्सट्रेट तापमान को फिर से अनुकूलित करने की आवश्यकता होती है।


प्रतिक्रिया
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