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संकेत आपको पीजोइलेक्ट्रिक ट्रांसड्यूसर के लिए सहायता की आवश्यकता है

दृश्य: 5     लेखक: साइट संपादक प्रकाशन समय: 2018-02-11 उत्पत्ति: साइट

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संकेत आपको पीजोइलेक्ट्रिक ट्रांसड्यूसर के लिए सहायता की आवश्यकता है

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बिस्मथ स्तरित संरचना का यौगिक अल्ट्रासोनिक रिसीवर ट्रांसड्यूसर की खोज सबसे पहले 1949 में ऑरिविलियस ने की थी। तब इसकी अनूठी क्रिस्टल संरचना और उच्च क्यूरी तापमान अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर अनुप्रयोग ने व्यापक चिंता पैदा की, इस प्रणाली ने गहन अध्ययन किया है। बिस्मथ स्तरित सिरेमिक के रासायनिक सूत्र को (Bi2O2) 2+ (Am-1BmO3m + 1) 2- के रूप में व्यक्त किया जा सकता है, जो (Bi2O2) 2+ और पेरोव्स्काइट परतों (Am-1BmO3m + 1) व्यवस्था, 1 ~ 4 वैलेंस या उनके बीच के यौगिक के साथ 12 समन्वय का एक बिट बनाता है, जैसे: K +, Na +, Ca2 +, Pb2 +, Ln3 +, Bi3 +, U4 + इत्यादि; आयनों के अष्टफलकीय समन्वय या उसके संयोजन के लिए बी स्थिति, जैसे: Fe3 +, Cr3 +, Ga3 +, Ti4 +, Zr4 +, Nb5 +, Ta5 +, आदि। m पेरोव्स्काइट परत में अष्टफलकीय परतों की संख्या के अनुरूप एक पूर्णांक है, आमतौर पर 1 और 5 के बीच। क्यूरी तापमान पीजेडटी सामग्री पीजो टीसी = 790 ℃ है, यह अधिक सामान्य और अधिक अध्ययन किया जाने वाला बिस्मथ स्तरित पीजोइलेक्ट्रिक सिरेमिक है। अल्ट्रासोनिक पीजोइलेक्ट्रिक सिलेंडर में आम तौर पर अपेक्षाकृत कम ढांकता हुआ स्थिरांक, सिंटरिंग तापमान और उम्र बढ़ने की दर, साथ ही उत्कृष्ट इन्सुलेशन प्रतिरोध और वोल्टेज विशेषताओं का सामना करना पड़ता है, बहुत उच्च क्यूरी तापमान और इलेक्ट्रोमैकेनिकल युग्मन गुणांक की महत्वपूर्ण अनिसोट्रॉपी होती है, जो पीजोइलेक्ट्रिक सेंसर सर्किट उन्हें उच्च तापमान के रूप में उपयोग के लिए उपयुक्त बनाता है, उच्च आवृत्ति अवसरों में उपयोग की जाने वाली पीजोइलेक्ट्रिक सामग्री। हालांकि, बिस्मथ स्तरित संरचना की कम समरूपता और इसकी प्लेट जैसी क्रिस्टल विशेषताओं के कारण, पीजोइलेक्ट्रिक ट्यूब सेंसर का जबरदस्त क्षेत्र बहुत बड़ा है और ध्रुवीकरण करना बहुत मुश्किल है, जिसे आमतौर पर उच्च तापमान के तहत करने की आवश्यकता होती है। दूसरी ओर, सीमा, इसलिए पीजोइलेक्ट्रिक गतिविधि बहुत कम है, पीजोइलेक्ट्रिक गुणांक d33 आमतौर पर 20 pC/N से अधिक नहीं होता है। बिस्मथ स्तरित सिरेमिक के पीजोइलेक्ट्रिक गुणों में सुधार करने के लिए, इसे संशोधित करने की आवश्यकता है। आमतौर पर उपयोग की जाने वाली दो विधियाँ हैं: प्रक्रिया सुधार और डोपिंग प्रतिस्थापन। प्रक्रिया में सुधार का उद्देश्य यह आशा करना है कि बनावट वाले सिरेमिक को प्राप्त करने के लिए क्रिस्टल अनाज के विकास अभिविन्यास को कुछ विशेष प्रसंस्करण द्वारा नियंत्रित किया जा सकता है। आम तौर पर सिरेमिक की एक निश्चित बनावट प्राप्त करने के दो तरीके हैं: एक विशेष गर्मी उपचार प्रक्रिया है, जैसे गर्म-कास्टिंग विधि और गर्म दबाव इत्यादि, यह विधि मुख्य रूप से अनाज सीमा अव्यवस्था आंदोलन और पर्ची की अनाज सीमाओं के माध्यम से होती है, ताकि क्रिस्टल अनाज दिशात्मक अभिविन्यास प्राप्त कर सके, और दूसरा टेम्पलेट क्रिस्टल विकास विधि के माध्यम से है, मैट्रिक्स में बिखरे हुए टेम्पलेट के रूप में क्रिस्टल अनाज के कुछ अभिविन्यास की विधि द्वारा प्राप्त पिघला हुआ नमक, अनाज के लिए अतिरिक्त ड्राइविंग बल का उपयोग अभिविन्यास के अनुसार उन्मुख विकास टेम्पलेट का.


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