السيراميك الكهرضغطي الملبد ذو درجة الحرارة المنخفضة

  في تطوير مجموعة متنوعة من تركيبات السيراميك الكهرضغطية ذات درجة الحرارة المنخفضة، ولكن أيضًا لتحسين العملية لتقليل درجة حرارة تلبد حلقات السيراميك الكهرضغطية يتم استكشافها. في أوائل سبعينيات القرن العشرين، قام علماء أجانب بإجراء دراسة أولية لعملية الطحن وهي عملية تلبد خصائص تلبيد السيراميك الكهرضغطية .1972 LM. يستخدم Brom طريقة sol-gel للحصول على مسحوق فائق النقاء عالي النقاء من PLZT، تقوم حلقات الضغط الانضغاطي ذات الأقطاب الكهربائية الفضية بإعداد عينة المسحوق عند 1050 ~ 1170 درجة مئوية، والحرق في جو الأكسجين هو الحصول على هيكل موحد من السيراميك الانضغاطي الشفاف PLZT. درجة حرارة التلبيد من 150 إلى 200 درجة مئوية. من خلال الحصول على بيزو PLZT لمحول طاقة السونار في القرن العشرين بعد الثمانينات، تم تطوير سيراميك الضغط لتكنولوجيا طحن الدقيق. الولايات المتحدة SLSwartz لديها طريقة تركيب من خطوتين في عام 1984، وعرضت شركة K.Kegawa اليابانية طريقة التخليق الكيميائي في عام 1986 هـ. يامامورا وغيره من الترسيب الكيميائي متعدد الخطوات يوفر تخليق الرصاص (Mg1 / 3Nb2 / 3) الذي يمكن تحقيقه عند تلبد عند درجة حرارة منخفضة حوالي 1000 درجة مئوية. 1992 T تقدم ياماموتو طريقة تخليق كيميائي جزئي وفقًا للتخليق السابق. إن تشغيل محول الطاقة الكهرضغطية للمواد الكهرضغطية PZTN التي يتم تصنيعها بواسطة عملية الطحن يتم تلبيدها بكثافة عند درجة حرارة 1000 درجة مئوية بكثافة تصل إلى 8.0 جم / سم 3. يتم تنفيذ الطريقة الأساسية ومقارنة تلبيد السيراميك الكهرضغطي بدرجة حرارة منخفضة لتقليل درجة حرارة تلبيد مادة السيراميك الكهرضغطية. ويتم ذلك عادةً عن طريق إضافة التدفق وتحسين العملية.