Новини

Ви тут: додому / Новини / Основи п'єзоелектричної кераміки / Одностороння шліфована п’єзокерамічна підкладка з оксиду алюмінію

Одностороння шліфована п’єзокерамічна підкладка з оксиду алюмінію

Перегляди: 1 Автор: Редактор сайту Час публікації: 2018-10-10 Походження: Сайт

Запитуйте

Додаючи інгібітор іржі, оксид алюмінію П'єзокерамічну підкладку можна ефективно запобігти жовтуватості після полірування, і це не впливає на ефект полірування. Таким чином, під час високоефективного тоншого та надгладкого полірування п’єзокерамічних підкладок із оксиду алюмінію можна додати до шліфування інгібітор іржі, полірувальну рідину, щоб отримати гарну технологічну поверхню та уникнути дефектів зовнішнього вигляду та продуктивності. Швидкість видалення матеріалу при односторонньому шліфуванні з використанням чавунного шліфування є найвищою, а швидкість видалення матеріалу при односторонньому шліфуванні за допомогою п’єзошліфування. шліфування кераміки найгірше. Швидкість видалення матеріалу алмазним абразивом при односторонньому шліфуванні в 4,6 рази перевищує швидкість двостороннього шліфування. Вища швидкість видалення матеріалу спричиняє більше пошкодження поверхні п’єзокераміки, тому шорсткість поверхні Ra алмазу, отриманого шляхом одностороннього шліфування, також вища. Порівняно з одностороннім шліфуванням на п’єзокерамічному шліфуванні, швидкість видалення матеріалу після одностороннього шліфування на чавунному шліфувальному диску становить 7,1 м/хв, що в 7,1 разів більше, ніж у попереднього, тоді як шорсткість поверхні абразивного листа нижча, ніж у першого.

З одного боку, щоб видалити абразив між шліфувальним диском і деталлю, П'єзокераміка HIFU має ефект переробки абразиву, необхідно нарізати шліфувальну п'єзоповерхню, а різні структури канавок по-різному впливають на ефект обробки шліфування. Поверхня чавунного п’єзодиска має тонку кільцеву канавку. Канавка цієї структури може значною мірою утримувати полірувальну рідину на поверхні шліфувального диска, не витікаючи, і при тій самій швидкості потоку суспензії буде більше абразивних частинок. Він діє на шліфувальну деталь, щоб збільшити швидкість видалення матеріалу з поверхні після шліфування; у той час як поверхня п’єзокерамічного шліфувального диска має структуру поперечної канавки, канавка цієї структури дозволяє більшій частині абразиву заповнити канавку та обертатися разом із шліфувальним диском. У зоні дії шліфування лише невелика кількість абразиву діє між шліфувальною п’єзоповерхнею та шліфувальною заготовкою, так що лише невелика кількість абразивних частинок діє на шліфувальну заготовку з однаковою швидкістю потоку суспензії, тому швидкість видалення матеріалу з поверхні після шліфування є низькою. З іншого боку, чавунний п’єзодиск м’якший, ніж шліфувальна заготовка. Абразив в основному впроваджується в поверхню чавунного шліфувального диска для видалення мікрорізів на шліфувальній заготовці. Швидкість видалення Матеріал поверхні п’єзоперетворювача HIFU високий, а механізм видалення має пошкоджену ділянку на поверхні. шорсткість поверхні Ra після шліфування менша; у той час як керамічний диск твердіший за абразивну заготовку, абразив в основному створює тертя кочення між шліфувальним диском і заготовкою, а швидкість видалення матеріалу поверхні низька.

Площа пошкодження поверхні велика, а шорсткість поверхні Ra після полірування також висока. Для високоінтенсивна сфокусована ділянка п’єзокерамічної поверхні, області 2, 3 і 4 є областями керамічної поверхні, які є областями домішок поверхні п’єзокераміки. Поверхня п’єзокераміки з оксиду алюмінію не містить елемента Fe, що вказує на те, що поверхня п’єзокераміки з оксиду алюмінію не має заліза або відповідного забруднення після одностороннього шліфування на чавунному шліфувальному диску; можна побачити, що площа поверхні п’єзокераміки з оксиду алюмінію не містить елемент Fe. Кажуть, що залізо, яке мігрує з поверхні чавунного шліфувального диска на поверхню п’єзокерамічної підкладки, і жовті забруднення, які хімічно наносяться та покриваються на п’єзокерамічну поверхню, механічно видаляються та вивільняються шляхом подрібнення. Можна побачити, що домішки, схожі на білу речовину, відрізняються від полірованої поверхні п’єзокераміки з оксиду алюмінію, і це домішки, які не були ретельно видалені та очищені, а типи елементів, що містяться в них, містять елементи Mg, Si та Fe на додаток до елементів O та Al. Забруднення можна видалити шляхом подальшого шліфування, полірування та ультразвукового очищення.

Тому на поверхні немає пожовтіння Підкладка п’єзоелектричного елемента HIFU після одностороннього шліфування. Вважається, що під час процесу одностороннього шліфування залізо, що виходить із чавунного шліфувального диска, мігрує до п’єзокераміки через потік полірувальної рідини. На поверхні підкладки відбувається хімічна дія, утворюючи жовті забруднення та покриваючи поверхню п’єзокераміки. Існує певна швидкість утворення, і абразивні частинки також видаляються з поверхні п'єзокерамічної підкладки в процесі шліфування. коли швидкість видалення матеріалу більша або дорівнює швидкості жовтих забруднень. Він буде видалений і виведений одночасно з утворенням. Крім того, в отворах на поверхні п’єзокерамічної поверхні немає заліза чи відповідних забруднювачів, а хімічна дія запобігає виникненню під час подальшої обробки та нанесення п’єзокерамічної підкладки з оксиду алюмінію, що впливає на продуктивність. Таким чином, процес одностороннього шліфування з вищою швидкістю видалення може вирішити проблему пожовтіння поверхні п’єзокерамічної підкладки з оксиду алюмінію. Оскільки абразивний матеріал має найсильніший ефект видалення та більше підходить для одностороннього шліфування, розчин підходить для одностороннього шліфування з алмазом як абразивом.