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片面研削アルミナ圧電セラミック基板

ビュー: 1     著者: サイト編集者 公開時間: 2018-10-10 起源: サイト

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防錆剤を添加することにより、アルミナ 研磨後のピエゾセラミック 基板の黄ばみを効果的に防止でき、研磨効果には影響しません。したがって、アルミナピエゾセラミック基板の高能率薄化および超平滑研磨においては、良好な加工面を得て外観や性能の欠陥を回避するために、研削に防錆剤を添加することが可能である。 鋳鉄研削を使用した片面研削の材料除去率が最も高く、ピエゾセラミック研削を使用した片面研削の材料除去率は最も悪い。片面研削法のダイヤモンド砥粒の研磨速度は両面研削法の4.6倍です。材料除去速度が高いほど、ピエゾセラミック表面に与えるダメージが大きくなるため、片面研削で得られるダイヤモンドの表面粗さRaも高くなります。ピエゾセラミック研削盤での片面研削に比べ、鋳鉄研削盤での片面研削後の材料除去速度は7.1m/minと7.1倍と高く、研磨シートの表面粗さは前者に比べて低くなります。


一方で、研削ディスクとワークピースの間の砥粒を除去するために、 HIFU ピエゾセラミックスは 研磨剤をリサイクルする効果があり、研削ピエゾ表面に溝を付ける必要があり、異なる溝構造は研削加工効果に異なる影響を与えます。鋳鉄製ピエゾディスク表面には微細な環状溝を採用。この構造の溝により研磨液を逃がさずに砥石表面に多く保持することができ、同じスラリー流量でもより多くの砥粒が存在します。研削ワークに作用して研削後の表面除去率を高めます。ピエゾセラミック砥石表面はクロスグルーブ構造を採用していますが、この構造の溝により砥粒の大部分が溝内に充填され、砥石とともに回転します。研削作用領域では、研削ピエゾ面と研削ワークとの間に少量の砥粒しか作用しないため、同じスラリー流量でも研削ワークに作用する砥粒の量が少なく、研削後の表面材除去率が低くなります。一方、鋳鉄ピエゾディスクは研削ワークに比べて柔らかいです。砥粒は主に鋳鉄砥石の表面に埋め込まれており、研削ワークの微細な切削除去を行います。除去率は HIFU 圧電トランスデューサーの 表面素材は高く、除去機構の表面に損傷領域があります。研削後の表面粗さRaが低い。セラミックディスクは研磨ワークピースよりも硬いですが、研磨材は主に研削ディスクとワークピースの間に三体転がり摩擦を生成し、表面材料の除去率は低くなります。


表面に生じるダメージ面積が大きく、研磨後の表面粗さRaも高い。のために 高密度焦点ピエゾ 表面ホール領域、領域 2、3、および 4 はセラミック表面領域であり、ピエゾ セラミック表面の不純物領域です。アルミナ圧電セラミックの表面にはFe元素が含まれていません。これは、鋳鉄研削ディスクで片面研削した後、アルミナ圧電セラミックの表面に鉄または対応する汚染物質の残留物がないことを示しています。アルミナ圧電セラミックの表面積にはFe元素が含まれていないことがわかります。鋳鉄砥石の表面からピエゾセラミック基板の表面に移動する鉄や、ピエゾセラミック表面に化学的に付着して覆われている黄色の汚染物質を機械的に除去し、研削により逃がすと言われています。この白質状の不純物は、研磨されたアルミナピエゾセラミック表面とは異なり、十分に除去・洗浄されていない不純物であり、含まれる元素種類としては、O、Al元素の他に、Mg、Si、Fe元素が含まれていることが分かる。その後の研削・研磨工程と超音波洗浄により不純物を除去します。


そのため、表面に黄ばみがありません。 HIFU圧電素子基板。片面研削工程中に鋳鉄砥石から逃げた鉄が研磨液の流れに乗ってピエゾセラミックスに移行すると考えられます。基板表面では化学作用が起こり、黄色の汚染物が形成され、ピエゾセラミックスの表面を覆います。一定の生成速度があり、研削中にピエゾセラミックス基板の表面から研磨粒子も除去されます。プロセス。 片面研削後の物質の除去速度が黄色の汚染物質の速度以上の場合。生成と同時に除去され、排出されます。さらに、ピエゾセラミック表面の穴には鉄やそれに相当する汚染物質が含まれておらず、その後のアルミナピエゾセラミック基板の加工や塗布において、性能に影響を与える化学作用の発生が防止されます。したがって、研磨速度の高い片面研削加工により、アルミナピエゾセラミック基板の表面の黄変の問題を解決することができる。最も除去効果が強く片面研削に適した砥材であるため、ダイヤモンドを砥粒とする片面研削に適しています。


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