पीज़ोइलेक्ट्रिक सिरेमिक की विनिर्माण प्रक्रिया

परशा।तैयारी करना उत्कृष्ट प्रदर्शन के साथ अल्ट्रासोनिक पीज़ोसेरेमिक रिंग्स पीज़ोइलेक्ट्रिक सिरेमिक सामग्री, हमें पहले उपयुक्त सिस्टम संरचना का चयन करना होगा, और केवल उचित संरचना अनुपात के आधार पर, उच्च-प्रदर्शन सामग्री विकसित करना संभव है। की वर्तमान तैयारी अनुकूलित क्रिस्टल पीजो पीजोइलेक्ट्रिक सिरेमिक को मुख्य रूप से बेरियम टाइटेनेट में डोपिंग द्वारा संशोधित किया जाता है। पारंपरिक उत्पादन प्रक्रिया पिकअप पीजो ट्रांसड्यूसर पीजोइलेक्ट्रिक सिरेमिक के वर्तमान प्रदर्शन के लिए पूरी तरह से अनुकूल नहीं हो सकती है, विशेष रूप से सीसा रहित पीजोइलेक्ट्रिक सिरेमिक के विकास के लिए यह और भी अधिक है। सोल और जेल विधियों (विशेष रूप से सिरेमिक फिल्मों की तैयारी में) के सफल अनुप्रयोग के साथ, अब रेशेदार सोल और जेल विधि के साथ काम करने में सक्षम हो गया है। सबसे पहले, एक सोल और जेल प्रक्रिया का उपयोग तैयार करने के लिए किया जाता है (रासायनिक प्राथमिक कण और फिर परिणामी जेल घोल को फाइबर में बाहर निकालना।) पीजोइलेक्ट्रिक ट्रांसड्यूसर हेमिस्फेरिकल के निकाले गए फाइबर को एक मोनोलिथिक फाइबर जेल प्राप्त करने के लिए वृद्ध और सुखाया जाता है। तरल चरण सिंटरिंग, और प्रारंभिक सोल हीटिंग दर में जोड़ा जाएगा, वायुमंडल में सिंटर किया जाएगा, आप इन फाइबर के शुद्ध फाइबर से कम या उसके बराबर का औसत व्यास प्राप्त कर सकते हैं, केवल जुड़वां क्रिस्टल माइक्रोस्ट्रक्चर का छिद्र वितरण उच्च विद्युत क्षेत्र ध्रुवीकरण हो सकता है, और ध्रुवीकरण के दौरान बड़े चतुर्भुज विरूपण के कारण होने वाले इंटरग्रेनुलर तनाव को कम कर सकता है।