avainparametrit ja korkeatarkennetun pietson ohjaus (一)

Ultraäänen työtaajuuden, polttovälin, polttopisteen, äänen intensiteetin, sivukeilan ja muiden tärkeiden parametrien mittaaminen sekä fokusoidun äänikentän laatu ovat avainasemassa HIFU pietsokeramiikkateknologian suunnittelu, jolla on erottamaton suhde HIFU-laitteiden suorituskykyyn, tehokkuuteen ja laajuuteen. HIFU-käsittelyjärjestelmän toimintataajuus on yleensä välillä 2 OMhz. Jos ultraäänitaajuus on liian alhainen, polttopiste on liian suuri, eikä fokusoitua ultraääntä menetetä, eikä kirurgisen konformaalisen hoidon periaatetta saavuteta. Jos ultraäänitaajuus on liian korkea, polttoväli on liian pieni, hoito on aikaa vievää ja ääniaallon taajuus on liian korkea. Kun otetaan huomioon kudosabsorptiokertoimen ja ultraäänitaajuuden välinen suhde, tunkeutumiskykyyn vaikuttaa väistämättä. varten Hifu pietsosähköinen kristallipallo , kuinka paljon ultraäänen työtaajuus on sopiva? Toisin sanoen taajuus määritetään ja vastaava polttopiste voidaan määrittää. Polttoväli määrittää HIFU:n tehokkaan hoidon syvyyden. Ihmiskudoksissa maksa- ja munuaisvauriot ovat noin 20 mm matalia, eturauhasen leesiot noin 150 mm ja muut ihmisen kudokset ovat periaatteessa 20 mm:n alueella. Edellä mainittujen tekijöiden lisäksi polttoväliä on pidettävä korkeana. Mitä tulee ultraääniaaltojen taajuuden etenemiseen biologisissa kudoksissa. Alan standardi edellyttää, että fokusoidun äänikentän sivukeilan maksimitason tulee olla alle 1 sd B ja äänenvoimakkuuden maksimi polttovälissä on vähintään 10 w/c. Kun se suunnittelee järjestelmää, mitkä toimenpiteet ohjaavat fokusoidun äänikentän tarkennuksen laatua korostamaan .pääkeila tekee käsittelyn korkeatarkennus pietsosähköinen keramiikka turvallinen ja tehokas.

Akustisen linssin tarkentaminen ei vaadi primitiivin vaihe- ja amplitudisäätöä, mutta anturi on sovitettava kuorman mukaan. Muuten sähköakustisen muunnoksen hyötysuhde on alhaisempi ja ison sähköteho kuluu siirtokaapelin ja anturin itsekuumenemiseen. Monikoveralla pallomaisella tarkennusmuuntimella on korkeat vaatimukset primitiivin suorituskyvylle ja vaiheiden yhtenäisyydelle. Muussa tapauksessa ero sidosprosessissa vaikuttaa vakavasti fokusoidun äänikentän laatuun, koska primitiivien määrä on liian suuri, anturi tarvitaan. On myös epärealistista suorittaa sovituksen ja vaiheen amplitudin säätöä, joten tarkennusanturi ei voi ohjata kohdistettua äänikenttää; kuten monielementtisessä itsefokusoivassa muuntimessa, jos jokaisen ultraäänikorkeuden pietsokoneen fokus ei voi osoittaa samaan, Tarkennuksen ultraääniparametrien jakautuminen on suhteellisen huono, polttopiste vaikuttaa väistämättä terapeuttiseen keilaan, ja korkea sivuvaikutus on väistämättä liian suuri. Näin ollen samalla kun varmistetaan anturin käsittelyn tarkkuus ja 7Mhz korkeatarkennus pietso paksuuden tasaisuuden varmistamiseksi, on ryhdyttävä toimenpiteisiin anturin resonanssitaajuuden vaihe- ja amplitudi-eron vaikutuksen eliminoimiseksi fokusoituun äänikenttään.